听到周晓东的话，在座的这些研发人员都是笑了起来。
对于眼前这个老板，没有人觉得他是在吹牛。
在跟精密机械电子技术部门开完会后，周晓东也是跟谭小松亲自带领的制程工艺技术研发部门讨论起关于新型场效应晶体管的具体制备工艺技术编制的讨论。
此时周晓东在白色的书写板上面用唛头笔刷刷地画着新型晶体管的具体结构以及一些算法公式。
“这种立体晶体管的结构可以提升栅极对于通道区域的控制，并且可以减少漏电流降低芯片的功耗，在相同的制程工艺和芯片面积下可以塞入更多的晶体管，这对芯片的性能提升是很明显的。”
周晓东此时开口说道：“不过制备这种晶体管难点在于几个技术难点，一个是无法准确定义鳍状结构的位置造成鳍片倒塌，再一个就是控制不好刻蚀的时间导致过度蚀刻，影响鳍状结构的作用效能。”
说到这里，他拿着唛头笔在白板上面刷刷地书写着东西，“为了避免这些问题，我的想法是这样的，首先，我们在基底上面形成晶体管的第一鳍片和第二鳍片，接着开始我们的第一次蚀刻工艺……”
周晓东此时也是将前世记忆中一套非常成熟的制程工艺一点一点地进行了仔细的讲解，包括谭小松等人都是听得十分入神，都拿着手中的纸笔开始记录。
这种新型的晶体管制备出来的工序十分复杂，不过周晓东凭借着自己强悍的记忆将具体的工艺工序给一点一点地讲解出来。
这种工艺主要是利用阶段性地鳍片切割制作工艺，慢慢地对虚拟鳍片进行蚀刻，可避免发生倒塌或过度蚀刻等问题。
当然，周晓东也是对工艺进行了改进，可以可形成具有不规则形状的鳍状结构，让晶体管具有更好的作用效能。
“注意，在进行第二个阶段蚀刻制作工艺中，我们要选用对于硅基底有较高蚀刻比例的蚀刻剂，主要是用来提升蚀刻效果。”
周晓东此时也是将工艺过程中一些需要注意的技术细节做了提醒。
在座的众人都是震惊不已：老板说的这些差不多已经是一套非常完整的晶体管制备工艺流程了，连用什么材料都是说得十分清楚。
“周董，这套工艺你之前在实验室做过很多次了？”
周晓东笑了笑，“这套工艺我在脑袋里面已经是酝酿很久了，也是觉得可行，今天我把这套工艺流程说给各位听，是希望各位抓紧时间进行验证一下。”
“这套工艺我是觉得一点问题都没有的，我们马上就开始做准备。”
谭小松毕竟是研发过很长一段时间的制程工艺，不管是直觉还是技术经验都认为这套工艺流程是没有问题的。