“非常好！”
一号首长高兴地说道：“你们用这方法来发展国内的晶圆生产线是非常正确的，应该大力推广！”
周晓东开口说道：“目前国际上那些半导体设备大厂已经停止了生产六英寸和部分八英寸晶圆生产线设备，注意力都放在了新型的八英寸晶圆生产线和十二英寸生产线设备上面，其实这对我们国内发展半导体设备产业来说是一个难得的机会空窗期。”
“你是说我们国内发展六英寸晶圆生产线的设备产业？”
一号首长此时看着周晓东问道。
“是的，六英寸晶圆生产线设备和制程工艺非常适合生产各种功率器件和电源管理芯片和光电器件，芯片器件对制程工艺和设备的要求不是特别高，通过技术攻关，国内这些科研院所是能够研制出不少的国产化设备进行替代的。”
周晓东笑着说道：“目前星环科技公司这边集中了一大批富有技术经验的半导体器件技术研发人员，之前主要是力晶科技公司培养出来的人才，现在和雅迪电子科技公司联合研发不同型号的电子电力芯片器件，我们研制的低压低功耗高性能电源芯片器件已经大量向包括诺西亚公司等国际知名的公司进行供货。”
“我们自身的产品设备也大量地用我们自己的芯片器件另外我们为许多国内外的品牌商设计开发和贴牌代工各种电源模块，订单量也相当大，我们对六英寸晶圆生产线设备需求量是很大的，现在这些海外的半导体产商已经不再配套生产这种六英寸晶圆生产线设备，我是希望国内的设备产商能够快速顶上来的。”
“在晶圆制造环节当总共有七个关键环节，包括扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、化学机械抛光、金属化，目前我们国内能在几年时间里面研制出六英寸和八英寸光刻和刻蚀和扩散以及薄膜生产以及金属化五个关键工艺环节的设备，这些设备里面的国产化率可以达到一个比较高的程度。”
周晓东开口说道：“我们几家公司自身可以解决光刻机设备以及光刻工艺技术方面难题，另外我们和罗志平先生的华微半导体科技公司一起合作正在开发刻蚀设备和薄膜沉积设备，可以解决国内半导体在刻蚀工艺和薄膜沉积工艺以及金属化工艺需要的设备和工艺技术，剩下的工艺设备如果国内能进行技术攻关把需要的设备研制出来就再好不过了。”
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